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High Vacuum Deposition Equipment for metal thin film

Facility/equipment: Equipment

  • LocationShow on map

    コラボレーションセンター 2階208号室

    Japan

Equipments Details

Description

高真空中(10-4~10-5 Pa)において、金属材料などを抵抗加熱により蒸発させることで、薄膜を作製することができる。
物理、化学、工学、材料、無機、固体、圧力
na

Fingerprint

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