年別の研究成果
年別の研究成果
設備の詳細
電子線に感光する樹脂薄膜にナノメートルからマイクロメートルのパターンを描画する装置です。
電子デバイス、光学デバイス、集積回路などの試作品の開発や、半導体チップの原盤となるマスクの作製に用いられます。
仕様 加速電圧: 50kV,30kV,20kV 最小電子ビーム径: 2nm (於 50kV) 描画最小線幅: 10nm (於 50kV) 描画フィールドサイズ: 最大 1.5x1.5mm(3x3mm 於 20kV) 最小 100μm x 100μm 最大試料サイズ: 4インチφウエハーおよび□4インチマスク 特色 ・静電型のビーム偏向器を改良し、1mm□の大面積フィールドに於いても、低歪みで均一な露光が可能。 ・高精度リニアエンコーダを搭載し、ステージ位置とビーム位置へのフィードバックにより、つなぎ精度100nm(3σ)以下を実現。 ・オート機能の充実により、ビーム調整や描画スタート時の煩わしい操作を大幅に簡略化
電子デバイス、光学デバイス、集積回路などの試作品の開発や、半導体チップの原盤となるマスクの作製に用いられます。
仕様 加速電圧: 50kV,30kV,20kV 最小電子ビーム径: 2nm (於 50kV) 描画最小線幅: 10nm (於 50kV) 描画フィールドサイズ: 最大 1.5x1.5mm(3x3mm 於 20kV) 最小 100μm x 100μm 最大試料サイズ: 4インチφウエハーおよび□4インチマスク 特色 ・静電型のビーム偏向器を改良し、1mm□の大面積フィールドに於いても、低歪みで均一な露光が可能。 ・高精度リニアエンコーダを搭載し、ステージ位置とビーム位置へのフィードバックにより、つなぎ精度100nm(3σ)以下を実現。 ・オート機能の充実により、ビーム調整や描画スタート時の煩わしい操作を大幅に簡略化
フィンガープリント
この設備が使用された研究分野を検索します。これらのラベルは、関連する成果に基づいて生成されます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
研究成果
- 5 Article
-
Semiconductor–metal transition in Bi2Se3 caused by impurity doping
Uchiyama, T., Goto, H., Uesugi, E., Takai, A., Zhi, L., Miura, A., Hamao, S., Eguchi, R., Ota, H., Sugimoto, K., Fujiwara, A., Matsui, F., Kimura, K., Hayashi, K., Ueno, T., Kobayashi, K., Akimitsu, J. & Kubozono, Y., 12月 2023, In: Scientific reports. 13, 1, 537.研究成果 › 査読
Open Access5 被引用数 (Scopus) -
Surface Diffusion-Limited Growth of Large and High-Quality Monolayer Transition Metal Dichalcogenides in Confined Space of Microreactor
Suzuki, H., Hashimoto, R., Misawa, M., Liu, Y., Kishibuchi, M., Ishimura, K., Tsuruta, K., Miyata, Y. & Hayashi, Y., 7月 26 2022, In: ACS Nano. 16, 7, p. 11360-11373 14 p.研究成果 › 査読
20 被引用数 (Scopus) -
Band Engineering of Bilayer Graphene through Combination of Direct Electron Transfer and Electrostatic Gating
Zhi, L., Goto, H., Takai, A., Miura, A., Hamao, S., Eguchi, R., Nishikawa, T., Tokito, S. & Kubozono, Y., 10月 29 2020, In: Journal of Physical Chemistry C. 124, 43, p. 24001-24008 8 p.研究成果 › 査読
1 被引用数 (Scopus) -
Super-chiral vibrational spectroscopy with metasurfaces for high-sensitive identification of alanine enantiomers
Iida, T., Ishikawa, A., Tanaka, T., Muranaka, A., Uchiyama, M., Hayashi, Y. & Tsuruta, K., 9月 8 2020, In: Applied Physics Letters. 117, 10, 101103.研究成果 › 査読
28 被引用数 (Scopus) -
Whitish daytime radiative cooling using diffuse reflection of non-resonant silica nanoshells
Suichi, T., Ishikawa, A., Tanaka, T., Hayashi, Y. & Tsuruta, K., 12月 1 2020, In: Scientific reports. 10, 1, 6486.研究成果 › 査読
Open Access16 被引用数 (Scopus)